高純金屬靶材具有超大尺寸、高密度、高純金屬靶材，高純金屬靶材是屬于新型的離子濺射鍍膜靶材料。可廣泛應用于顯示屏的阻擋層或調色層，筆記本電腦的裝飾層、電池的封裝、太陽能（光伏）電池的阻擋層，具有很好市場前景和經濟效益。

高純金屬靶材中的鎢靶材主要用作金屬層間的通孔和垂直接觸的接觸孔的填充物，即鎢塞。而鎢合金靶材，如WSi2，主要用在柵極多晶硅的上部作為多晶硅硅化物結構和局部互聯線。隨著半導體芯片尺寸越來越小，銅互連尺寸的縮小導致納米尺度上電阻率的增加，這已成為制約半導體工業發展的一個技術瓶頸。有研究表明，難熔金屬鎢有望取代銅成為下一代的半導體布線金屬材料。

鎢金屬具有高熔點、高強度和低的熱膨脹系數等性能，鎢金屬合金具有低的電阻系數、良好的熱穩定性能和抗氧化性能。由于鎢合金靶材系列薄膜具有非常優良的性能，近幾年來應用量急劇增加，鎢金屬靶材世界用量已達到400t，隨著光伏產業的發展，這種靶材的需求量會越來越大。具行業預測其用量還會有很大的增加，國際太陽能電池市場以100%的速度增長。

金屬靶材中的鎢靶材特點為，噴涂、燒結后的鎢靶,具有99%的密度甚至更高、平均透明紋理的直徑為100um甚至更小、含氧20ppm或更少，偏轉角力為500Mpa左右的特性；提高未加工金屬粉末的生產，提高燒結的能力，可以使鎢靶的成本穩定在一個低價位。燒結后的鎢靶密度高，具有傳統的壓制燒結方法所無法達到的高水準的透明框架，并且明顯改善了偏轉角力，以致顆粒物顯著的減少。 

鎢靶合金靶材作為物理氣相沉積用濺射靶材，在半導體領域用于制作柵電極、連接布線、擴散阻擋層等。金屬靶材中的鎢靶材主要應用于航天、稀土冶煉、電光源、化工設備、醫療器械、冶金機械、熔煉設備、石油、等領域，而且這些市場將來會有更廣闊的市場空間。